LA-ICP/MS (レーザー照射型 誘導結合プラズマ質量分析)

レーザーアブレーション誘導結合プラズマ質量分析法(LA-ICP-MS)は、直接マイクロスケールサンプリングを使用して固体材料の高精度元素および安定同位体分析を提供する分析技術です。

LA-ICP-MSは、強力なナノ秒パルスレーザービームを使用して、サンプルの表面から材料を除去します。 レーザーとサンプル表面の相互作用により、「」と呼ばれるプロセスで、サンプル材料の加熱、蒸発、イオン化が発生します。レーザーアブレーション」。

LA-ICP/MSの原理

固体試料に対しレーザーを照射し、そのエネルギーで照射部分を蒸発・微粒子化させる。

LA-ICP/MSの原理

LA-ICP/MSの特徴

– 微量レベルから主成分に近い高濃度レベルまでの測定が可能。
– 周期表の大部分の元素の測定が可能。(例外元素;C, N, O, F, Ne, Cl, Ar, Br, Kr, Tc, Xe, Pm,Po, At, Rn, Fr, Ra, Ac, Pa)
– 試料全体を溶液化できない場合、または局部的に測定したい場合に有効。
– 深さ方向分解能:~1μm
– 前処理を必要とせず、非破壊に近い測定が可能。

LA-ICP/MSによるラインスキャン分析

LA-ICP/MSによる内包成分分析

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