各種ウエハ表面の金属汚染の評価に適した手法이다

表面金属汚染分析で使用する単位について

表面 金属 汚染 分析 で は, あ ま り 馴 染 み の な い 単 位 を 使用 し て い ま す. 一般 的 に ​​SIMS 分析 な ど で 使用 す る 単 位 は 원자 / cm3 (体積 密度) で す が, 表面 金属 汚染 分析 で は 원자 / cm2 (面積 密度)を 用 い て い ま す. こ の 単 位 を 解 り や す く 言 う と 「単 位 面積 あ た り に ど れ だ け の 汚染 原子 が ウ エ ハ 表面 に 存在 し て い る か (付 着 し て い る か)」と 解 釈 す る と 理解 し や す い と 思 い ま す.

金属汚染(atoms/cm2)を金属の球体に変換するとどのくらいの大きさ？

ウエハ表面の金属汚染量は面積密度で表記されていますので、どの程度の金属汚染量なのかイメージしづらいと思います。ここで客観的に理解するために、金属汚染量（atoms/cm2）を金属の球体に変換したときの球体の大きさについて考えてみたいと思います。例としてウエハ表面に銅汚染が1E10 (atoms/cm2)存在した場合について考えたいと思います。この汚染量を銅の球体に変換には、アボガドロ数などを用いて変換することができます。計算すると、球体の半径は0.3um程度と求まります。サブミクロンの小さな金属のパーティクルが一つ存在しただけであってもE10台(atoms/cm2)の汚染になることが分かります。

TXRF分析のmatping分析について

デ バ イ ス は 様 々 な プ ロ セ ス を 経 て 作 製 さ れ ま す. プ ロ セ ス か ら の 汚染 の 形状 や 発 生 場所 は プ ロ セ ス ご と に 異 な り ま す. そ の た め, 金属 汚染 が ど の 場所 で 発 生 し て い る か を 把握 す る こ と は プ ロ セ ス の 改善 の た め に非常 に 重要 で す. 例 え ば, 酸化 炉 や 拡 散 炉 で は, ウ エ ハ と 石英 ボ ー ド が 接触 し て い る 部分 に 金属 汚染 が 発 生 す る 場合 が あ り ま す. ま た ウ エ ハ の 搬 送 時 に は 搬 送 用 ベ ル ト か ら の 汚染 が 付 着 す る 場合 もあります。
TXRF分析はウエハ面内のマッピng分析が可能で、PROセスからの汚染の有無を判定することが出来る特長があります。