LA-ICP/MS (レーザーテージマテジ结合プラズマ质量分析)

レザーアブレーション引入结合プラズマ分析法(LA-ICP-MS)は直接マイクロスケールサンプリングoo使用して分析材料の接触元素および安定か体分析

LA-ICP-MSは、强力なナノ秒パルスレーザービーム使用して、サンプルの表面から材料かます。蒸発、イオン化が発生します。レーザーアブレーション」。

LA-ICP/MS的原理

污试料に対に対のしレーそゾのし、そエルザーで部分o蒸発・微粒子化させる。

LA-ICP/MS的原理

LA-ICP/MS的特徴

– 微量レベルから主に近い高浓度レベルルでの补成分が可能。
– 生命周期表の可能の元素の配件が。 (例外元素;C, N, O, F, Ne, Cl, Ar, Br, Kr, Tc, Xe, Pm,Po, At, Rn,Fr, Ra , 交流, 帕)
– 试料小零食oo溶液化でい场合、たはきなに补はしたい场合に有效。
– 深さ方向细分能力:~1μm
– 前处理o必要とせず、非破壊に近い补が可能。

LA-ICP/MSによるラインスキャン分析

LA-ICP/MSによる内包成分分析

材料试験のための当社のサービスについてもっと知りたいですか?

材料络试験のニーズについては、今すぐお问い合わせください:03-5396-0531 または、门のフォムにあばばあばば家连しさー。

为了启用某些功能并改善您的使用体验,此站点将cookie存储在您的计算机上。 请单击“继续”以提供授权并永久删除此消息。

要了解更多信息,请参阅我们的 私隐政策.