LA-ICP/MS (レーザーテージマテジ结合プラズマ质量分析)
レザーアブレーション引入结合プラズマ分析法（LA-ICP-MS）は直接マイクロスケールサンプリングoo使用して分析材料の接触元素および安定か体分析
LA-ICP-MSは、强力なナノ秒パルスレーザービーム使用して、サンプルの表面から材料かます。蒸発、イオン化が発生します。レーザーアブレーション」。
LA-ICP/MS的原理
污试料に対に対のしレーそゾのし、そエルザーで部分o蒸発・微粒子化させる。
LA-ICP/MS的特徴
– 微量レベルから主に近い高浓度レベルルでの补成分が可能。
– 生命周期表の可能の元素の配件が。 （例外元素；C, N, O, F, Ne, Cl, Ar, Br, Kr, Tc, Xe, Pm,Po, At, Rn,Fr, Ra , 交流, 帕)
– 试料小零食oo溶液化でい场合、たはきなに补はしたい场合に有效。
– 深さ方向细分能力：～1μm
– 前处理o必要とせず、非破壊に近い补が可能。
LA-ICP/MSによるラインスキャン分析
LA-ICP/MSによる内包成分分析
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