X线反射率反射法(XRR:X-ray Reflection)とは

X线表面上の薄膜·薄膜角にるしと、薄膜底层てX线表面ががされます。や界面で透过波と反射波に分かれ、反射波は干渉します。入射射光の変がならoo行い、光路差厚の変化に伴う反射波の干、渉膜のの解析から、薄膜界面ラフネスることができます。用手です。

X线反射率反射法(XRR:X-ray Reflection)とは

XRRの特徴

–超薄膜·精细薄膜(0.5nm~400nm*膜种にによりなる)) – 金属膜価も可能 – 膜面覆膜异よび非粗さ补 – 破壊补补– 300mmウエハまで补可能

评価例

– バリアメタル
– Cuシード及びメッキ层
– 各种金属、シリサイド薄膜
– ゲート绝縁膜(SiON,高k膜)
– キャップSi/SiGe 膜
– 各种绝縁膜 など

四艺上の四格単层膜の评価

结果: SiGe膜厚:108.1nm,密度:3.067g/cm2,粗さ:1.26nm

Ru薄膜のウエハ面内均一性评価

CuxOy/Ta/Sio2 精细薄膜ウエハ内均一性评価

CuxOy/Ta/Sio2 精细薄膜ウエハ内均一性评価

TiN薄膜の膜厚及び酸素、封素浓度のウエハ面内均一性评価(XRR+LEXES)

HfO2/AI203膜の各层膜厚及びHf,AI,浓度のウエハ面内均一性评価(XRR+LEXES)

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