입자 유도 X 선 방출 (PIXE)

입자 유도 X 선 방출 (PIXE)은 고 에너지 이온 충격으로 인해 샘플에서 방출되는 X 선을 측정하는 것입니다. 여러 종류의 여기 빔이 대상 요소의 에너지 특성을 가진 X 선을 생성합니다. 광자 여기 (X 선에 의한)는 X 선 형광 분광법을 발생시킵니다. 주사 전자 현미경 또는 전자 마이크로 프로브의 전자 여기는 에너지 분산 또는 파장 분산 X 선 분광법을 제공합니다 (X 선 분산 및 검출 방법에 따라 다름). He의 하전 입자 빔2+ 또는 H+ PIXE 분광학으로 이어집니다. 세 가지 경우 모두 여기 빔은 코어 전자를 제거하고 외부 쉘 전자가 내부 쉘 빈 공간을 채우기 위해 상태를 변경하면 특정 에너지로 X 선이 방출됩니다. 방출되는 X 선 에너지는 여기 과정과는 독립적이지만 존재하는 원소의 특징입니다.

이 액세서리는 무거운 원소 식별에 유용합니다. RBS 악기. 이러한 무거운 원소는 유사한 질량으로 인해 RBS 후방 산란 에너지에서 작은 차이 만 가질 수 있지만 PIXE 스펙트럼에서 뚜렷한 차이를 가질 수 있습니다. PIXE는 분석 기법으로 몇 가지 장점이 있습니다. 비파괴 적이며 전자빔 대응 물과 유사한 신호 레벨을 제공하지만 신호 대 배경 비율이 더 좋습니다. 전자 분광학의 배경은 bremsstrahlung에서 비롯됩니다.2+ 또는 H+ 이온은 심지어 PIXE 에너지에서도 전자보다 훨씬 낮은 속도를 가진다. 전자 유도 분광학에 대한 또 다른 이점은 RBS와 마찬가지로 PIXE가 절연 샘플과 함께 작동한다는 것입니다.

PIXE의 이상적인 사용

  • RBS만으로는 해결할 수없는 무거운 원소의 식별 / 정량

장점

  • RBS에 대한 빠르고 편리한 보완 기술
  • 전자빔 유도 대응 물과 유사한 신호 레벨을 제공하지만 신호 대 배경 비율이 더 좋습니다.

제한 사항

  • 넓은 분석 영역 (~ 1-2mm)
  • 유용한 정보는 최고 ~ 1 μm 샘플로 제한됩니다.

PIXE 기술 사양

  • 검출신호 : 후방 산란 He 원자
  • 검출원소 : 알 - 유
  • 검출한계 : 0.1-10 at %
  • 심도 분해능 : 없음
  • 이미징 / 매핑 : 아니
  • 평면 분해능 / 샘플링 프로브 크기 : ~ 1 ~ 2mm

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