氢前向散射光谱(HFS)

氢前向散射光谱法(HFS)是一种离子散射技术,用于定量测定薄膜中氢的垂直分布。 在这个过程中,他2+ 离子以掠射角撞击样品表面,将氢原子从样品中敲出,然后使用固态检测器进行分析。

由于氢对薄膜物理或电学性质的潜在影响,因此测量薄膜中氢含量的组成和垂直分布的能力至关重要。 其他技术,例如俄歇电子能谱(AES),能量色散X射线能谱(EDS)和X射线光电子能谱(XPS),无法检测到氢; 尽管SIMS可以测量氢气,但SIMS定量氢气可能很困难并且需要标准。 这使得HFS成为用于薄膜分析的独特有用技术。

很少有实验室能够提供HFS。 EAG的经验可以缩短周转​​时间,提供准确的数据和人对人的服务,从而确保您了解结果对于物料和流程的意义。

HFS的理想用途

  • 薄膜的氢分析

我们的强项

  • 非破坏性H成分测量
  • 整个晶圆分析(高达300mm)
  • 导体和绝缘体分析

限制

  • 分析面积大(1 mm x 7 mm)
  • 有用信息仅限于薄膜(<0.4μm)
  • 深度分辨率300Å

HFS技术规格

  • 检测到信号: 向前散射的H原子
  • 检测到的元素: 1H,2H
  • 检测限: 0.1-0.5 at%
  • 深度分辨率: 〜300Å
  • 成像/制图: 没有
  • 横向分辨率/探头尺寸: > = 1毫米x 7毫米

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