X射线反射率（XRR）

X射线反射率（XRR）是一种与X射线衍射（XRD）相关的技术，正成为一种广泛使用的工具。 描述 薄膜和多层结构. 以非常小的衍射角进行 X 射线散射可以表征低至几十 Ǻ 厚的薄膜的电子密度分布。 使用反射率模式的模拟，高度精确地测量晶体或非晶态的厚度、界面粗糙度和层密度 薄膜 并且可以获得多层。 与光学椭偏仪不同，不需要有关薄膜光学特性的先验知识或假设

XRR的理想用途

• 高精度的薄膜厚度和密度测量
• 测量薄膜或界面粗糙度
• 测量整个晶圆的薄膜均匀性
• 测量低k薄膜的孔密度和孔径

我们的强项

• 整个晶圆分析（最大300毫米）以及不规则和大型样品
• 完整晶圆的映射
• 导体和绝缘体分析
• 对于精确的厚度测定，不需要知道膜的光学性质
• 最低或无样品制备要求
• 所有分析的环境条件

限制

• 需要对预期的基本样品结构有一些了解，以便提供准确的密度结果（例如，存在的层的顺序及其近似成分）
• 为了确定厚度，表面和界面的粗糙度必须小于〜5 nm。 表面粗糙度和密度仍可在较粗糙的样品上确​​定
• 最大膜厚〜300 nm

XRR技术规格

• 检测到信号： 反射的X射线
• 检测到的元素： 没有特别地检测到元素，而是测量了层的电子密度。 结合对层组成的了解，可以精确确定层的厚度和密度
• 检测限： 最小层厚15-100Ǻ
• 深度分辨率： 〜测量厚度的1％
• 成像/制图： 有
• 横向分辨率/探头尺寸： 约1厘米