俄歇电子能谱(AES,Auger)

俄歇电子能谱(AES或Auger)是一种表面敏感的分析技术,它利用高能电子束作为激发源。 被电子束激发的原子随后会松弛,从而导致“俄歇”电子的发射。 发射的俄歇电子的动能是样品顶部3-10 nm之内的元素的特征。

俄歇电子能谱SMART图表

AES是我们的一部分 智能图表系列。 另外,由于光点尺寸的范围,它提供了出色的表面灵敏度和小的光点尺寸。

此技术以法国物理学家Pierre Victor Auger在1923年的名字命名。但是,现在大多数人都认可了奥地利-瑞典物理学家 Lise Meitner 作为第一个发现从原子表面发射电子可以产生能量特征的人。

主要应用

由于电子束直径较小,AES 在投资粒子和小区域时非常有用,因为它能够研究小于 25 nm 的尺寸。 当薄膜太薄时,它也提供了一个很好的选择 EDS分析. AES 可以通过溅射将薄膜叠层采样到一微米或更深的深度。

最重要的是,AES 是一种半定量方法,这意味着我们通常根据设备制造商提供的标准灵敏度因素提供结果。 如果需要更准确的结果,可以通过查看已知成分并将它们与未知材料进行比较来获得。

可以在大小可变的区域上扫描电子束,也可以将其直接聚焦在感兴趣的特定表面特征上。 将电子束聚焦到10-20 nm直径的能力使得 俄歇电子能谱是一种非常有用的小表面特征元素分析工具。 还可以考虑的其他技术是 XPS 以及 TXRF。 当与溅射离子枪结合使用时,俄歇电子能谱还可以执行成分深度分析。

俄歇电子能谱的理想用途

  • 缺陷分析
  • 粒子分析
  • 表面分析
  • 小面积深度剖析
  • 薄膜分析组合物
  • 冶金分析

我们的强项

  • 首先,小面积分析(最小约20 nm)
  • 其次,出色的表面灵敏度(3-10 nm的信息深度)
  • 第三,良好的深度分辨率

限制

  • 最佳量化所需的标准
  • 绝缘体可能很难
  • 样品必须与真空兼容
  • 检测灵敏度通常为0.1-1 at%

俄歇电子能谱技术规格

  • 检测到信号:来自近表面原子的俄歇电子
  • 检测到元素:Li-U
  • 检测限:0.1-1at%; 亚单层
  • 深度分辨率:2-20 nm(在深度分析模式下)
  • 成像/映射:是的
  • 横向分辨率/探针尺寸: ≥10 纳米

EAG 在处理常规和非常规俄歇分析请求方面拥有无与伦比的经验,多年来,一直使用俄歇电子光谱来解决各种工业分析应用。

EAG广泛的俄歇电子光谱学专业知识具有直接的分析优势,无论我们是分析亚微米颗粒以确定晶圆加工设备中的污染源,还是分析电子设备中的缺陷以调查故障的根本原因。 最后,俄歇分析在 冶金 研究,包括在电镀抛光氧化层厚度的测定 医疗器械,EAG 不断利用其经验帮助解决许多行业领域客户的苛刻问题。

 

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